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发射谱XES

产品简介

发射谱XES是一种重要的分析技术,主要用于研究材料的电子结构和化学性质。硬X射线具有较高的能量,能够深入样品内部,使XES成为探测材料深层信息的强有力工具。

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更新时间:2024-04-19
厂商性质:生产厂家
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Rapid 发射谱XES仪器资料

Rapid XES硬X射线发射谱(X-ray Emission Spectroscopy,XES)是一种重要的分析技术,主要用于研究材料的电子结构和化学性质。硬X射线具有较高的能量,能够深入样品内部,使XES成为探测材料深层信息的强有力工具。XES的主要应用领域包括:

1.化学状态分析:XES能够提供关于样品中元素化学状态的直接信息,如氧化态和配位环境,这对于理解材料的化学性质和反应机制至关重要。

2.材料科学:在新材料的开发和研究中,XES被用来分析材料的电子结构、能带结构和价带信息,这些信息对于优化材料的电学和光学性能非常重要。

3.催化剂研究:XES技术能够在原子级别上探测催化剂的活性位点及其电子环境,为设计更高效的催化剂提供了可能。

4.环境科学:通过分析环境样品(如土壤、水体和大气颗粒)中污染物的化学状态,XES有助于理解污染物的来源、迁移和转化过程。

5.能源材料研究:在研究电池、燃料电池和太阳能材料的电子结构和工作机制时,XES提供了关键的电子层面信息,对优化这些能源转换和存储设备的性能具有重要意义。

6.生物医学领域:XES用于研究生物分子(如蛋白质和酶)中金属离子的配位环境,这对于理解生物分子的功能和设计药物具有重要作用。

7.地球科学:在地球和行星科学研究中,XES可以分析矿物和岩石样本,揭示其成分和形成过程中的环境条件。

硬X射线发射谱(XES)技术因其提供的元素和化学状态信息,在科学研究和工业应用中发挥着越来越重要的作用,特别是在无法直接使用其他技术探测样品深层或微量元素的情况下。随着测量技术的进步,XES预计将在未来在更多领域中找到应用。

仪器原理:

XES


仪器外观:

微信图片_20240320213526

发射谱XES仪器参数:

1.探测能量范围:5~15 keV;

2.可测3d元素K边、5d过渡金属L边、以及锕系元素L边荧光峰;

3.电子空穴效率:≥1×1011;

4.能量分辨率:≤1.5 eV Cu Ka;

5.检测限:≤0.1%wt;

6.重复性:重复扫描能量偏移<50meV;

7.氦气腔体,减少X射线空气吸收;

8.高纯度Si或者Ge晶体单色器,保证全能区能量分辨率;

9.配置原位池系统,可以设计各种模块化的原位测试系统,高温低温、多相催化、电催化等各种原位测试系统集成,可实现模块化切换;

10.包含数据处理系统,采集过程中发射谱数据自动输出,无需额外切换。

参考数据:

Mn

Co Foil Kα

CoKalfa1CoO Co Kbeta

LabkbetasourceFlux



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